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La technologie des transistors Tri-Gate emploie une structure 3 -D dans la conception de transistor où les portes sont positionnés sur les trois côtés du substrat de silicium , par opposition à un seul. Ceci a l' avantage de contrôler les fuites de courant lorsque les transistors sont à l'état bloqué et l'amélioration de l'écoulement du courant d'entraînement. La combinaison de la technologie des transistors Tri-Gate avec d'autres technologies existantes, comme l'utilisation de silicium contraint et high-k diélectriques de grille , signifie que l'amélioration continue de cette technologie est en cours depuis sa création. Certaines restrictions existent cependant dans l'utilisation de la technologie des transistors Tri-Gate . Velocity Saturation
Velocity saturation se produit lorsque la valeur maximale est atteinte lorsque toute augmentation de tension ne conduit pas à une augmentation linéaire de courant , ce qui va à l'encontre de la loi d'Ohm . Cet effet devient plus important que les transistors deviennent plus petits , comme dans le cas de transistors Tri-Gate . Cet effet peut être expliqué en utilisant la formule suivante:
V = U E (E est assez petite )
V = Vsat (E est assez fort )
Vgs augmente , les acides gras saturés courant de drain bien avant pincement se produit.
infraliminaire swing
le swing sous- seuil est la tension de grille nécessaire pour changer , par une grandeur , le courant de drain . Comme les transistors deviennent plus petits , la longueur de grille diminue également et par la suite il en résulte une augmentation de la balançoire sous- seuil . Toute augmentation des résultats d'utilisation de tension dans le gaspillage d'énergie qui est libérée sous forme de chaleur .
DIBL
vidange abaissement de la barrière induite ( DIBL ) est l'endroit où seuil les tensions sont réduites à des tensions de drain élevées . Comme la longueur du canal est de taille réduite , l' abaissement de barrière augmente. Cet effet reste en marche même s'il n'y a pas d'application d'un courant de polarisation inverse . Avec l'augmentation des dimensions 3-D dans les transistors Tri-Gate , DIBL devient un problème qui prend en considération cette nouvelle conception lors du redimensionnement .
Punch Through
Il s'agit d'un extrême cas dans lequel les régions de drain et de source fusionnent pour former une seule région d'appauvrissement . Dans ce cas, le champ de grille dépend de la tension drain-source . Cet effet résulte une augmentation de courant que la tension drain- source augmente , limitant ainsi la tension de fonctionnement maximale.
Limitations de vitesses
À l'échelle nanométrique , la vitesse de fonctionnement est affecté par la constante de temps RC , et la mobilité des porteurs . L'utilisation de diélectriques high-k signifie que la polarisation supérieur sera connu . En retour, cela crée des vibrations de phonons qui interfèrent avec la mobilité des électrons , ce qui entraîne une diminution des performances .
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